風華高科下屬公司端華公司系列片式電阻器技改擴產的一個重要創新點——“真空濺射技術”將在片阻生產中凸顯舉足輕重的作用。該技術是一種成熟的片阻封端工藝，其具有成本低、效率高、產能大、質量好、生產操作簡單等優點。隨著真空濺射技術的問世以及在生產工作中的出色表現，正引起同行的廣泛關注和大力研究應用。

   真空濺射法是制備金屬膜的一種重要方法，在金屬膜電阻（薄膜電阻）、薄膜集成電路中制備平面電阻、電容、電極、導帶等方面有著廣泛的應用。隨著全球片阻市場競爭的加劇，片阻價格越來越低，生產成本成了制約片阻市場擴張的一個重要因素。只有不斷地降低生產成本，才能在激烈的市場競爭中占據有利的地位。經過對世界同行片阻封端工藝的現狀研究發現，傳統的銀漿浸封（Dipping）、涂銀（Roller Coating）工藝由于成本高正在逐漸被低成本的真空濺射工藝所代替（或部分代替）。同時片阻小型化發展很快，使用傳統銀漿封端工藝生產小尺寸產品不利于尺寸控制，工藝難度大，而真空濺射封端工藝可以克服這方面的缺點，是制作小型化片阻的首選封端工藝。因此，引入真空濺射封端工藝的時機已經成熟，這將大大降低片阻生產成本，提高產品競爭力，為0402的技改擴產提供更有效的工藝支持，并為0201片阻和高精度薄膜片阻的開發打下基礎。

應用真空濺射封端工藝可以達到以下目的：

1、降低片阻端頭的生產成本，從而降低片阻總成本；

2、解決片阻小型化（0402、0201）時傳統的銀漿浸封（Dipping）、涂銀（Roller Coating）工藝在封端無法突破的問題，從而在質量和成本之間獲得平衡；

3、提高片阻的合格率；

4、為將來開發高精度薄膜片阻打下技術基礎。

   近年來片阻市場價格不斷下降，風華高科己經掌握了真空濺射技術，使售價與成本之間的差距不斷拉近，相對利潤也越來越低。因此，如何降低生產成本，提高利潤和市場競爭力是片阻生產廠的重要任務。真空濺射封端工藝正是適合低成本需求的一種新工藝，是風華高科開拓市場的一個新的競爭力量。